EDA 工作流要求差别很大。在前端有大规模并行 RTL 模拟，最多可包含一百万个元数据密集型小文件。在后端有大型物理文件和制造文件的处理需求。EDA 基础架构需要灵活地支持高度并行且经常突发的 EDA 工作流所需的性能要求（延迟、IOPS 和吞吐量）。

云显然是现代 EDA 工作流设计的下一阶段开发。传统的 EDA 工作流非常繁忙，无法满足 10 纳米、7 纳米和 5 纳米等计算和存储领先的流程技术的要求。这给 IT 基础架构造成的负担比传统的内部部署解决方案承受的更大。当组织利用云弹性时，可以在不繁忙的情况下以较低的成本运行 EDA 工作流，并在需要更多资源时快速扩展。因此，随着 EDA 供应商、设计师和半导体制造商开发更加集成的工作流，云将成为下一个逻辑集成阶段。

在云中选择合适的存储对于提供这一全新云 EDA 工作流时代所需的性能、安全性和功能能力至关重要。云存储必须足够灵活，以满足 EDA 流程不断变化且要求苛刻的计算要求。NetApp 凭借近 30 年的云存储领导地位，提供性能最高的云文件服务和最丰富的功能集，为现代 EDA 工作流提供支持。

借助 NetApp Cloud Volumes ONTAP，Mellanox 通过使用重复数据删除将生产数据占用空间减少了 69%，现在将 90% 的灾难恢复冷数据分层存储到成本较低的对象。

“我们寻找的云存储解决方案可以与内部部署相集成。这就是我们选择 NetApp 的主要原因。我们审查了几个供应商产品并检查了他们的服务。NetApp 是最成熟的。它在云方面提供竞争对手无法提供的功能。”

— Mellanox 存储团队主管 Nir BoyarskY

NetApp 正在与 Synopsys 和 Google Cloud 密切合作，提供下一代基础架构，以支持云中的功能验证工作负载。

“借助 Synopsys 、 Google Cloud 和 NetApp Cloud Volumes Service 的共同优势，客户可以利用云的精简性和灵活性来转变 EDA 工作流，而且即使是 Synopsys VCS 功能验证等要求最苛刻的应用程序也需要可靠性、性能和可用性。”

— NetApp 云数据服务高级副总裁 Anthony Lye